연세대학교 공동기기원 - Yonsei University

Focused Ion Beam( Multi Beam(FIB-SEM) System )

1) 제작사 : ZEISS

2) 모델명 : crossbeam 350

3) 설치장소 : 첨단과학기술연구관 전자현미경실 B121-F호실

4) 기기원리 및 특성

: 매우 가늘게 집속한 이온빔(Ga)을 재료표면에 주사하여 발생한 전자/원자를 검출, 이미지를 관찰하고 성분을 분석하거나 재료표면을 3차원으로 가공하는 기기

TEM 시료제작 전용 장비

Pt, C으로 depo. 가능

기기구성(specifications)

① Ion Beam

- Column Type : Ion Sculptor

- Resolution : 3nm@ 30kV

- Current Range : 1 ㎀ ∼ 100 ㎁

② SEM Beam

- Column Type : GEMINI

- Gun Type : Schottky Type

- Resolution : 1.7nm@1kV / 0.9nm@15kV

store Resolution 32k X 24k

③ Stage

- Type : 6-axis Super eucentric(DC Motors)

- XY-Travel : 100 × 100 ㎜

- Tilt Range : -4 ∼ 70。

- Tilt Accuracy : 0.5。

④ Attachment

- EDS(Energy Dispersive X-ray Spectroscopy) : oxford社 ULTIM MAX(100)

- Omniprobe : (Oxford社 OP400)

- GIS(gas injection system) : Platinum(Pt), Carbon(C)

활용범위

TEM분석 - TEM분석용 박막 샘플 제작(저전압 이미징 특화)

시료 단면 가공 후 - 시료 단면 가공 후 분석 (image&EDS)

3D - 3D Tomography (입체적인 image& EDS map image)

자성 샘플 측정 불가

시료 SIZE : 10mm이하이며 수분, 용매 및 기타 기화될 수 있는 물질을 제거하여 주시기 바랍니다.

TEM 시료제작시 TEM 분석일자를 기재해 주시면 좀 더 빠르게 스케줄 일정을 확인할 수 있습니다.