연세대학교 공동기기원 - Yonsei University

• Plasma를 이용한 금속원소의 극미량 분석
• MS/MS로 반응 화학을 제어하여 Si, P 및 S와 같이 이전에 분석이 어려웠던 원소에 대해서도 일관되고 신뢰할 수 있는 결과를 보장
• 4채널 셀 가스 제어로 빠르고 유연한 다중 모드 작동을 제공
• 헬륨 모드로 일반적인 동중원소 간섭을 간단하고 효과적으로 제어
• 높은 감도 및 낮은 백그라운드로 극미량 분석에서 매우 낮은 검출 한계 제공
• 폭넓은 활용 범위와 뛰어난 성능이 결합되어 첨단 연구와 까다로운 응용 분야를 지원

• Sample Introduction
• 27 MHz Plasma RF Generator
• Plasma and Shield Torch System (STS)
• Interface Cones
• Ion Lens
• First Quadrupole Mass Filter (Q1)
• 4th-Generation Octopole Reaction System
• Second Quadrupole Mass Filter (Q2)
• Electron Multiplier Detector
• Vacuum System

• 극미량 분석가능 (sub ppb)
• 전자재료, 반도체응용 Chemical Impurity 측정
• Phosporus, Sulfer 극미량 분석
• MS/MS 기능을 이용하여 복잡한 매질을 가진 시료 중 극미량 분석
• Clean Booth 설치로 외부환경에 대한 오염을 최소화
• 주기율표상 70가지 원소에 대한 반정량 분석
• Teflon으로 구성된 시료도입부 사용으로 불산을 포함한 다양한 산(Acid) 조건에서 분석 가능

산(Acid) 기반의 투명한 액체상태 외 모든 시료는 전처리가 필요합니다.

서비스 의뢰만 가능합니다