연세대학교 공동기기원 - Yonsei University

1. Optimum-geometry specimen chamber for all functions of FIB milling, SEM imaging
2. High-accuracy thin-film preparation achieved by combination with high-resolution SEM
3. Fast wide-area milling with large FIB ion-beam current up to 60 nA
4. Installation of up to 2 gas guns(C,W) for protective-film creation and wiring modification
5. Real-time monitoring of the progress of FIB milling observed by high-resolution SEM
6. High-speed analysis with large probe current up to 200 nA by a robust thermal FEG
7. In-situ TEM sample preparation by nanomanipulator

1. Ion Source : Ga liquid metal source
2. Electron Gun : In-lens Schuttky field emission gun
3. FIB Acceleration Voltage : 1~30kV
4. SEM Acceleration Voltage : 0.2~30kV
5. FIB Resolution : 5nm (at 30kV)
6. SEM Resolution : 1.2nm (at 30kV)
7. FIB Magnification : 100~300,000x
8. SEM Magnification : 50~1,000,000x
9. FIB Beam Current : 60nA
10. SEM Beam Current : 200nA

• 나노구조의 소재 및 소자 구조 분석과 이미징
• 고해상도를 요구하는 재료의 상관찰, 화학조성 분석
• 나노바이오 및 박막재료 등 국부 영역의 상관찰

1. Out-gas 시료 분석 불가능.
2. 건조 필수. (SEM 내부 chamber가 진공상태)
3. 자성이 있으면 분석 불가능.
4. 액상 분석 불가능.
5. 점성이 있으면 분석 불가능.

[직접사용]

• 반드시 사용자 본인 이름으로 예약.
• 직접사용자만 예약 가능.
• 장비 사용 시 반드시 승인을 받은 후 사용.
• SEM으로만 사용가능.

** 연세대학교 소속 중 일정 시간의 교육 이수 후 담당자로부터 일정 등급 이상의 유저등급을 부여받은 사용자에 한하여 직접 사용을 허가함.

[패널티 적용]

• 장비 사용예약시간 이후로도 예약 없이 사용을 계속하는 경우, 패널티를 적용하여 사용 제한.
• 본인 사용으로 장비 사용 예약 후, 당일 취소하는경우 장비 사용금액의 100%를 지불.
• 기기 사용중 본인 부주의로 인한 고장발생 시, 수리비 전액 부담.
• 기기 사용료미납 시 기기 사용 제한.